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微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法

国家标准
标准编号:GB/T 34900-2017 标准状态:现行
标准价格:31.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取的微双端固支梁结构表面形貌进行残余应变测量的方法。
本标准适用于表面反射率不低于4%且使用光学干涉显微镜能够获取表面形貌的微双端固支梁结构。
英文名称:  Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
什么是中标分类? 中标分类:  电子元器件与信息技术>>微电路>>L55微电路综合
什么是ICS分类?  ICS分类:  电子学>>31.200集成电路、微电子学
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2017-11-01
实施日期:  2018-05-01
提出单位:  全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
什么是归口单位? 归口单位:  全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
起草单位:  天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南京理工大学、中国电子科技集团公司第十三研究所
起草人:  郭彤、胡晓东、李海斌、于振毅、裘安萍、程红兵、崔波、朱悦
页数:  16页
出版社:  中国标准出版社
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