硅外延用三氯氢硅 |
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| 标准编号：GB/T 30652-2014 |
标准状态：已作废 |
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| 标准价格：24.0 元 |
客户评分：  |
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本标准规定了硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书以及订货单 (或合同)内容。
本标准适用于以粗三氯氢硅为原料经过提纯而制得的硅外延用三氯氢硅(以下简称产品)。 |
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| 英文名称： |
Trichlorosilane for silicon epitaxial |
| 标准状态： |
已作废 |
 替代情况： |
被GB/T 30652-2023代替 |
| 中标分类： |
冶金>>半金属与半导体材料>>H83化合物半导体材料 |
| ICS分类： |
电气工程>>29.045半导体材料 |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2014-12-31 |
| 实施日期： |
2015-09-01
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| 作废日期： |
2024-03-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)和全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)和全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2) |
| 起草单位： |
中锗科技有限公司、南京国盛电子有限公司、南京中锗科技股份有限公司 |
| 起草人： |
柯尊斌、刘新军、郑华荣、谭卫东、金龙 |
| 页数： |
8页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2015-09-01 |
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本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)和全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本标准起草单位:中锗科技有限公司、南京国盛电子有限公司、南京中锗科技股份有限公司。
本标准主要起草人:柯尊斌、刘新军、郑华荣、谭卫东、金龙。 |
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