用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 |
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| 标准编号：GB/T 29844-2013 |
标准状态：现行 |
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| 标准价格：29.0 元 |
客户评分：  |
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本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。
本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。 |
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| 英文名称： |
Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy |
 中标分类： |
电子元器件与信息技术>>电子设备专用材料、零件、结构件>>L90电子技术专用材料 |
| ICS分类： |
31.030 |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2013-11-12 |
| 实施日期： |
2014-04-15
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) |
| 主管部门： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) |
| 起草单位： |
上海华虹NEC电子有限公司 |
| 起草人： |
王雷、伍强、朱骏、陈宝钦 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2014-04-15 |
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本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本标准起草单位:上海华虹NEC电子有限公司。
本标准主要起草人:王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。 |
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GB/T16878—1997 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范
SJ/T10584—1994 微电子学光掩蔽技术术语 |
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