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| 英文名称： |
Test method for the surface quality of polished silicon wafers and epitaxial wafers by optical-reflection |
| 标准状态： |
已作废 |
 中标分类： |
冶金>>金属理化性能试验方法>>H24金相检验方法 |
| ICS分类： |
电气工程>>29.045半导体材料 |
| 发布部门： |
国家技术监督局 |
| 发布日期： |
1997-01-02 |
| 实施日期： |
1998-08-01
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| 作废日期： |
2005-10-14
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| 首发日期： |
1997-12-22 |
| 复审日期： |
2004-10-14 |
| 归口单位： |
全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 主管部门： |
国家标准化管理委员会 |
| 起草单位： |
南开大学,天津市半导体材料厂 |
| 页数： |
平装16开， 页数：10， 字数：15千字 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 书号： |
155066.1-14930 |
| 出版日期： |
2004-04-12 |
| 标准前页： |
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