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表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

国家标准
标准编号:GB/T 30701-2014 标准状态:现行
标准价格:43.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。
注:可采用石墨炉原子吸收光谱法或电感耦合等离子体质谱法代替全反射X 射线荧光光谱法来测定所收集的元素。
本标准适用于原子表面密度介于6×109atoms/cm2~5×1011atoms/cm2 范围的铁和/或镍。
英文名称:  Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy
什么是中标分类? 中标分类:  化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析
什么是采标情况? 采标情况:  ISO 17331:2004 IDT
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2014-06-09
实施日期:  2014-12-01
提出单位:  全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)
什么是归口单位? 归口单位:  全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)
主管部门:  全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
起草单位:  中国计量科学研究院。
起草人:  王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星。
页数:  24页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2014-12-01
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前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准使用翻译法等同采用ISO17331:2004《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》。
本标准纳入了ISO17331:2004/Amd.1:2010的修正内容,这些修正内容涉及的条款已通过在其外侧页边空白位置的垂直双线(‖)进行了标示。
本标准由全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)提出并归口。
本标准起草单位:中国计量科学研究院。
本标准主要起草人:王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星。
目录
前言 Ⅲ
引言 Ⅳ
1 范围 1
2 规范性引用文件 1
3 术语和定义 1
4 缩略语 2
5 试剂 2
6 仪器设备 5
7 试样制备及其测量环境 5
8 校准试样的制备 6
9 绘制校准曲线 7
10 工作标准样品上铁和/或镍的收集 8
11 工作标准样品上所收集铁和/或镍的测定 9
12 精密度 9
13 测试报告 9
附录A (资料性附录) 国际实验室间试验项目结果 11
附录B(资料性附录) 国际实验室间试验项目的GF-AAS和ICP-MS测量结果 14
引用标准
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T6379.2—2004 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第2部分:确定标准测量方法重复性和复现性的基本方法(ISO5725-2:1994,IDT)
ISO14644-1:1999 洁净室和相关控制环境 第1部分:空气洁净度的分级
ISO14706:2000 表面化学分析 硅片表面元素污染的全反射X 射线荧光光谱法(TXRF)测定

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